Trang chủ » Sản phẩm » AURUNA® 559 Hệ dung dịch mạ vàng tinh khiết

AURUNA® 559 Hệ dung dịch mạ vàng tinh khiết

0 ₫

 

Mô tả
Dung dịch mạ vàng trung tính tốc độ cao cho mạ chọn lọc
AURUNA® 559 được dùng để mạ nhanh các lớp vàng mịn bán bóng đến satin với độ bám dính và khả năng hàn tuyệt vời. Dung dịch mạ vàng tinh trung tính này được phát triển đặc biệt cho thiết bị mạ tốc độ cao cho mạ chọn lọc (dây chuyền phun và dòng chảy, mạ tia và mạ điểm).
Mật độ dòng điện tối đa áp dụng và tốc độ mạ phụ thuộc chủ yếu vào sự khuấy trộn dung dịch tại chi tiết (tốc độ dòng), tức là loại thiết bị sử dụng. Tốc độ dòng cao cho phép tốc độ mạ lớn. Để đạt độ bám dính tốt, đặc biệt trên Niken và hợp kim Niken, các chi tiết nên được mạ vàng lót trong dung dịch AURUNA® 580. Lớp mạ có độ bám dính xuất sắc, chịu nhiệt tốt, dẻo, mịn và màu vàng nhạt ngay cả với độ dày lớn (>20 μm).
Đặc tính dung dịch
  • Loại dung dịch Trung tính
  • Hàm lượng kim loại 16 (14 – 16) g/l Au
  • Giá trị pH 7.5 (7.3 – 7.5), đo tại 25 °C
  • Nhiệt độ vận hành 70 (70 – 75) °C
  • Khoảng mật độ dòng điện 10 – 25 A/dm²
  • Tốc độ mạ Xấp xỉ 6 – 15 μm/phút
  • Vật liệu anode Pt-Ti (loại PLATINODE® Pt/Ti)
Đặc tính lớp phủ
  • Lớp phủ Vàng tinh khiết
  • Độ tinh khiết 99,9 wt.% Au
  • Màu sắc lớp mạ Vàng nhạt
  • Độ sáng Mờ lụa đến bán bóng
  • Độ cứng 100 HV
  • Khối lượng riêng lớp phủ Xấp xỉ 19 g/cm³
Ưu điểm
  • Lớp vàng mịn kiểu satin
  • Phù hợp cho ứng dụng tốc độ cao
  • Có thể đạt mật độ dòng điện cao (10 – 25 A/dm²)
  • Tốc độ mạ cao (tới 15 μm/phút)
  • Độ bám dính và khả năng hàn tuyệt vời
  • Lớp mạ tuân thủ RoHS
  • Phân loại theo ASTM B-488-01 Type I-II, Code C-D
Ứng dụng
  • Bán dẫn
Đánh giá (0)

Đánh giá

Chưa có đánh giá nào.

Chỉ những khách hàng đã đăng nhập và đã mua sản phẩm này mới có thể để lại đánh giá.